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當前位置:首頁產品中心同位素質譜儀PHI ADEPT010動態(tài)二次離子質譜儀D-SIMS|束蘊儀器

動態(tài)二次離子質譜儀D-SIMS|束蘊儀器
產品簡介

ADEPT-1010 專為淺層半導體注入和絕緣薄膜的自動分析而設計,是大 多數半導體開發(fā)和支持實驗室的常用工具。通過優(yōu)化的二次離子收集光學系統(tǒng) 和超高真空設計,提供了薄膜結構檢測中的摻雜組分和常見雜質所需的靈敏度。

產品型號:PHI ADEPT010
更新時間:2025-04-24
廠商性質:代理商
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  動態(tài)二次離子質譜儀(Dynamic Secondary Ion Mass Spectrometry,簡稱D-SIMS)是一種用于固體材料成分分析的高靈敏度表面分析技術。
 
  ADEPT-1010 專為淺層半導體注入和絕緣薄膜的自動分析而設計,是大 多數半導體開發(fā)和支持實驗室的常用工具。通過優(yōu)化的二次離子收集光學系統(tǒng) 和超高真空設計,提供了薄膜結構檢測中的摻雜組分和常見雜質所需的靈敏度。
 
  工作原理:
 
  動態(tài)二次離子質譜儀通過使用聚焦的高能量一次離子束(如O??、Cs?、Ar?等)轟擊樣品表面,使樣品表面的原子或分子被濺射出來。在這個過程中,部分濺射出的粒子會帶電,形成二次離子。這些二次離子被收集并傳輸到質譜儀中進行分析,通過質譜分析可以確定樣品的化學組成和元素分布。
 

動態(tài)二次離子質譜儀

 

 

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